گروه صنعتی ایوی با همکاری یک مؤسسه فرانسوی اقدام به راهاندازی برنامه مشترکی در حوزه لیتوگرافی نانوچاپ کرده است. هدف از این برنامه شناسایی پتانسیلها و مزایای این فناوری و استفاده از آن در بخشهای مختلف صنعت است.
مؤسسه فرانسوی لتی (Leti) و گروه ای وی (EV) به صورت مشترک اقدام به راهاندازی برنامه مشترک جدیدی موسوم به Inspire کردند که در آن مزایا و پتانسیلهای لیتوگرافی نانوچاپ مورد استفاده قرار میگیرد. این گروه قصد دارد از این ابزار برای کاربردهای مختلف در صنعت نیمههادی استفاده کند.
علاوه بر ایجاد یک همکاری صنعتی برای توسعه فرآیند لیتوگرافی نانوچاپ، این برنامه به گونهای طراحی شده است که بتواند از مزایای این فناوری برای کاربردهای مختلفی نظیر فتونیک، پلاسمونیک، روشنایی، فتوولتائیک، زیستفناوری و اپتیکهای سطح ویفر استفاده کند.
لتی و گروه ایوی، به صورت مشترک از توسعه کاربردهای جدید این فناوری حمایت میکنند. آنها قصد دارند تا از مراحل مختلف توسعه این فناوری، از مطالعه امکانسنجی گرفته تا تولید صنعتی حمایت کرده و در این مسیر هزینهها و سدهای موجود برای استفاده از این لیتوگرافی نانوچاپ را کاهش دهند.
گروه صنعتی ایوی برای حمایت از تولید در حجم بالا، دستگاه Hercules®NIL را راهاندازی کرده است و این برنامه جدید به نوعی مکمل این دستگاه است.
مارکوس ویمپلینگر از مدیران گروه ایوی میگوید: «گروه ایوی از این که چنین همکاری مشترکی شکل گرفته بسیار خرسند است. بعد از یک دهه تحقیق و توسعه، گروه ایوی به سطحی از توانایی رسیده است که میتواند از فناوری لیتوگرافی نانوچاپ و مزایای آن استفادههای تازهای کند و از این پتانسیلها برای کاربردهای مختلف که با لیتوگرافی نوری رایج قابل انجام نیست، استفاده کند.»
بعد از راهاندازی برنامه فناوری لیتوگرافی نانوچاپ در یک دهه قبل، شرکت لتی سکان استفاده از این فناوری را به سوی کاربردهای فتونیک چرخانده است. در ابتدای سال 2014، این برنامه با بخش فناوریهای سیلیکون ترکیب شد و در نهایت برنامه همکاری جدیدی شکل گرفت.
لتی یکی از مؤسسات تحقیقات پیشرفته فرانسوی است که در حوزههای میکرو و نانو فناوری فعالیت دارد. این مرکز بیش از 2800 پتنت با صنایع مختلف دارد.
نظر دهید